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    通用CVD設(shè)備 MPCVD-50

    發(fā)布時(shí)間: 2023-10-16  點(diǎn)擊次數(shù): 698次

    通用CVD設(shè)備 MPCVD-50 是一種多功能管式爐式熱CVD設(shè)備,適用于各種應(yīng)用,例如CNT合成、碳膜形成、納米陶瓷膜形成、氮化以及硫族化物膜形成等。

    該設(shè)備具有以下特點(diǎn)和功能:

    1. 多功能應(yīng)用:MPCVD-50 可用于合成碳納米管(CNT)、在粉末樣品上沉積碳以及沉積各種CVD薄膜,如硫族化物層狀材料的氮化處理和成膜等。它的多功能性能使其適用范圍廣泛。

    2. 氣體控制系統(tǒng):設(shè)備配備三個(gè)質(zhì)量流量氣體流量控制系統(tǒng),可實(shí)現(xiàn)精確的氣體控制。這樣,用戶可以根據(jù)需要精準(zhǔn)地控制反應(yīng)氣體的流量和比例,確保反應(yīng)的質(zhì)量和可重復(fù)性。

    3. 液體燃料引入系統(tǒng):MPCVD-50 設(shè)備還配備了液體燃料(如乙醇)的引入系統(tǒng),可應(yīng)用于無法安裝碳?xì)浠衔餁怏w的場(chǎng)所。這樣,用戶可以在不受氣體限制的情況下進(jìn)行實(shí)驗(yàn)和研究。

    4. 高度可擴(kuò)展性:設(shè)備具有高度可擴(kuò)展性,可以輕松處理任何類型的處理需求。無論是在研究還是生產(chǎn)環(huán)境中,MPCVD-50 都能適應(yīng)不同規(guī)模和應(yīng)用的需求。

    5. 具備標(biāo)配真空排氣系統(tǒng):設(shè)備標(biāo)配真空排氣系統(tǒng),可用作真空爐、氣氛爐等。這樣,用戶可以根據(jù)需要在不同的氣氛條件下進(jìn)行反應(yīng)和處理,并且具備更大的靈活性。

    6. 緊湊堅(jiān)固的外殼設(shè)計(jì):MPCVD-50 設(shè)備采用緊湊堅(jiān)固的外殼設(shè)計(jì),易于安裝在桌面實(shí)驗(yàn)室工作臺(tái)等上。其精心設(shè)計(jì)的結(jié)構(gòu)確保設(shè)備的穩(wěn)定性和可靠性。

    此外,MPCVD-50 設(shè)備還配備了其他重要組件和功能,如管式爐、可編程溫度控制器、質(zhì)量流量控制器、波登管真空計(jì)、旋轉(zhuǎn)泵等。這些組件和功能的整合使得設(shè)備操作簡(jiǎn)便,效果穩(wěn)定可靠。

    總而言之,通用CVD設(shè)備 MPCVD-50 具備多功能的應(yīng)用特性,適用于各種氣相沉積需求。其精確的氣體控制系統(tǒng)和液體燃料引入系統(tǒng)確保了精準(zhǔn)的實(shí)驗(yàn)和研究結(jié)果。設(shè)備的高度可擴(kuò)展性和緊湊堅(jiān)固的外殼設(shè)計(jì)使其成為實(shí)驗(yàn)室和生產(chǎn)環(huán)境中的理想選擇。


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