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日本shinkuu鋨涂層裝置HPC-1SW
更新日期：2024-05-16
訪問量：1160
廠商性質：經銷商
生產地址：
簡要描述：
日本shinkuu鋨涂層裝置HPC-1SW該裝置是用于電子顯微鏡觀察的鋨涂層裝置。采用空心陰極樣品臺，通過低壓放電進行鍍膜，幾乎沒有樣品損壞。
日本shinkuu鋨涂層裝置HPC-1SW
該裝置是用于電子顯微鏡觀察的鋨涂層裝置。采用空心陰極樣品臺，通過低壓放電進行鍍膜，幾乎沒有樣品損壞。在空心陰極中會產生均勻的高密度等離子體，因此無論樣品的高度和材料如何，都可以在放置在圓柱體中的樣品表面形成厚度均勻的 Os 膜。中空陰極僅注入必要量的鋨氣體，消耗量小，未反應的氣體被活性炭捕集器吸附去除，從而抑制了有害氣體釋放到大氣中。
規(guī)格
| 物品 | 規(guī)格 |
| 電源 | AC100V（單相100V15A）1口 |
| 設備尺寸 | 寬200mm x 深350mm x 高375mm (設備重量15.5Kg) |
| 泵尺寸 | 排氣速度 50?/min (G-50DA 特殊型) 寬 156mm x 深 341mm x 高 200mm (泵重 12kg) |
| 樣品室尺寸 | 內徑120mm x 高90mm（硬玻璃） |
| 陰極尺寸 | 內徑105mm x 深度37mm（空心陰極法） |
| 樣品臺尺寸 | 直徑50mm（浮動法） |
日本shinkuu鋨涂層裝置HPC-1SW
該裝置是用于電子顯微鏡觀察的鋨涂層裝置。采用空心陰極樣品臺，通過低壓放電進行鍍膜，幾乎沒有樣品損壞。在空心陰極中會產生均勻的高密度等離子體，因此無論樣品的高度和材料如何，都可以在放置在圓柱體中的樣品表面形成厚度均勻的 Os 膜。中空陰極僅注入必要量的鋨氣體，消耗量小，未反應的氣體被活性炭捕集器吸附去除，從而抑制了有害氣體釋放到大氣中。
規(guī)格
| 物品 | 規(guī)格 |
| 電源 | AC100V（單相100V15A）1口 |
| 設備尺寸 | 寬200mm x 深350mm x 高375mm (設備重量15.5Kg) |
| 泵尺寸 | 排氣速度 50?/min (G-50DA 特殊型) 寬 156mm x 深 341mm x 高 200mm (泵重 12kg) |
| 樣品室尺寸 | 內徑120mm x 高90mm（硬玻璃） |
| 陰極尺寸 | 內徑105mm x 深度37mm（空心陰極法） |
| 樣品臺尺寸 | 直徑50mm（浮動法） |
