日本cew光學微缺陷檢測設備CEW 光學測量儀
更新日期：2024-05-16
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簡要描述：
日本cew光學微缺陷檢測設備CEW光學分辨率1.8μm，速度檢測！用于基板和金屬表面的缺陷檢測！
日本cew光學微缺陷檢測設備CEW
光學分辨率1.8μm，速度檢測！
用于基板和金屬表面的缺陷檢測！
概述
使用高分辨率相機和高精度 XY 載物臺的二維檢測系統(tǒng)。
適用于光學薄膜、片材、觸控面板等表面劃痕、異物、缺陷的檢測。
憑借 1.8 μm 的光學分辨率，可以進行超高清檢測。
它還可以測量尺寸和檢查二維沖壓產品。
特征
自動保存檢測數據和圖像
攝像頭像素：900萬像素
高光學分辨率(1.8 μm) 可以清晰地看到精細的檢測點。
適合檢查觸摸面板的外圍電極和印刷電路板上的精細布線是否有斷線和短路。
用法
用于檢查觸摸面板和異物等缺陷！
觸控面板周邊電極缺陷檢測
板材表面劃傷和異物檢查
基板缺陷檢查
系統(tǒng)配置
日本cew光學微缺陷檢測設備CEW
光學分辨率1.8μm，速度檢測！
用于基板和金屬表面的缺陷檢測！
概述
使用高分辨率相機和高精度 XY 載物臺的二維檢測系統(tǒng)。
適用于光學薄膜、片材、觸控面板等表面劃痕、異物、缺陷的檢測。
憑借 1.8 μm 的光學分辨率，可以進行超高清檢測。
它還可以測量尺寸和檢查二維沖壓產品。
特征
自動保存檢測數據和圖像
攝像頭像素：900萬像素
高光學分辨率(1.8 μm) 可以清晰地看到精細的檢測點。
適合檢查觸摸面板的外圍電極和印刷電路板上的精細布線是否有斷線和短路。
用法
用于檢查觸摸面板和異物等缺陷！
觸控面板周邊電極缺陷檢測
板材表面劃傷和異物檢查
基板缺陷檢查
